无锡国家集成电路设计园

  • 建筑类型: 综合楼
  • 建筑规模:520000㎡
  • 设计内容: ——
  • 项目地点:江苏 无锡
  • 设计周期: 2009 -2011

本项目占地面积20.25公顷,总建筑面积约52万平方米,包括集成电路研发测试、公共服务平台、生活服务中心及其他生活配套等功能。其中包括1栋22层的高层生活商务服务中心及公共服务平台建筑,4栋20层的高层综合办公建筑,10栋3~4层多层集成电路研发测试建筑。所有建筑均设2层地下室,其中地下1层只设在各个地上建筑投影范围内,包含餐厅、设备用房、地下车库等内功能,地下2层为连通的大地库,主要功能为车库和人防设施。地下车库共计停车位5000辆左右,其中普通停车位约3000辆,其余为机械停车位。

项目获奖证书

效果图







 
实拍图